4th Industrial Revolution, 디자인방법론 | Jun, 2020
|제1장| OPIS의 개요
[출처| 대통령직속 4차산업혁명위원회]
혁신의 자양분, 특허정보
기술 혁신의 결과물인 특허 정보는 새로운 기술 혁신의 자양분이다.
특허 제도는 발명을 공개하는 대가로 20년간의 독점권을 부여하는 제도이다. 공정 경쟁에 장애가 될 수 있는 독점권을 부여 하면서까지 발명의 공개를 유도하는 것은 공개된 발명을 이용하여 새로운 기술 혁신이 이루어지기를 기대하기 때문이다.
창의적인 아이디어를 도출하기위한 체계적 방법론_FOS
Function Oriented Search, 기능 중심으로 이종 기술을 탐색하는 TRIZ 방법론 중 하나
OPIS (Open Patent Intelligence Search), 이종 분야 특허 검색 방법론 이미 다른 영역의 기술 분야에 존재하는 문제 해결 원리를 벤치마킹함으로써 빠른 속도, 적은 비용으로 제품 혁신을 추구하는 신개념 특허 검색 방법론이다.
혁신의 딜레마
최근 글로벌 경쟁이 격화되는 가운데, 기업의 경쟁력을 강화시킬 핵심요인으로 기술 혁신, 제품 혁신이 부각되고 있다. 글로벌 경제 시대가 활짝 열리고 정보통신기술(ICT)의 발전 속도가 한층 가속화되면서 기업들은 무한 경쟁에 내몰리고 있다. 이에 따라 이러한 무한 경쟁에서 살아남기 위하여 경쟁사와 차별화되는 혁신적인 제품, 서비스의 개발이 모든 기업들의 생존 목표가 되고 있다. 따라서 혁신에 따른 리스크는 가능한 줄이되 성공 가능성은 높여주는 효율적인 혁신 방법론에 대한 요구가 날로 높아지고 있다
따라서 새로운 혁신을 위한 자양분으로서 특허 정보를 체계적으로 활용하고, 이를 통해 혁신의 리스크를 줄이기 위한 방법론의 개발이 절실했다
4차산업혁명이란?
인공지능, 빅데이터 등 디지털 기술로 촉발되는 초연결 기반의 지능화 혁명 역사적으로 돌이켜 보면, 우리는 범용기술에 의해 3차례의 산업혁명을 경험하였습니다. 그리고 우리는 AI, BIG DATA 등 지능정보 기술로 촉발된 새로운 세상, 4차 산업혁명 시대를 만들어가고 있습니다
TRIZ와 OPIS
트리즈는 겐리히 알츠슐러(1924-1988)가 1948년부터 개발한 창의적 문제 해결이론(Theory of Inventive Problem Solving)이다.
창의적인 아이디어들을 모두 모아서 그 동통점을 찾는다면, 창의성에 대한 객관적이고 구체적인분석이 가능할 것이다. 겐리히 알츠슐러는 수백만 건의 전 세계 특허들을 오랜 기간 분석한 후 도출된 공통점들을 이론으로 체계화하여 이를 트리즈라고 명명하였다.
OPIS눈 문제를 새로운 시각으로 분석하기 위해 트리즈의 기능 분석 기법을 활용한다.
어떤 주제를 어떤 검색어와 형식으로 검색할 것인가란 중요한 질문에 풍부하게 답을 하려면 새로운 시각에서 문제를 분석하는 것이 필요하다. 이를 위하여 트리즈에서 사용하는 기능분석(Function Analysis) 기법을 사용한다. FOS (Function Oriented Search)에서 사용하는 일반적인 기능 분석도 있지만 OPIS에서는 핵심 요소만을 포함하는 기능 분석이 중심적으로 사용된다.
OPIS는 문제에서 가능한 모든 해결책 방향을 도출하고, 문제 해결에 필요한 수평적 사고를 체계적으로 도출하기 위하여 트리즈의 문제 흐름 분석 기법을 활용한다.
어떤 주제를 어떤 검색어와 형식으로 검색할 것인지를 결정하기 위하여 문제의 발생 원인을 파헤치고, 문제에서 가능한 모든 해결책 방향을 도출하는 것이 필요하다. 이를 위해서 트리즈 방법론의 문제 흐름 분석 기법을 사용한다. 근본 원인 분석 (RCA, Root Cause Analysis)은 문제의 원인들을 인과관계에 따라 발생 순서로 나열하여 문제의 근본 원인을 파악하는 문석 방법이다. 이러한 근분 원인 분석 기법을 더욱 발전시킨 것이 문제흐름 분석 (PCA, Problem Chain Analysis)이다.으로서 근본 원인 분석의 중간 단계를 끊어 내어 해결책을 제시한다.
OPIS는 미처 생각하지 못한 창의적인 해결책에 해당하는 다양한 형태의 검색어를 설정하기 위해 트리즈의 모순 분석 기법을 활용한다.
어떤 검색어를 어떤 형식으로 검색할 것인지에 대한 결정을 위하여 선정된 해결책 방향의 깊은 분석은 트리즈가 맡는다. 트리즈의 모순분석(PTC, Physical Technical Contradiction Modeling)기법을 활용하면 미처 생각하지 못한 창의적인 해결책에 해당하는 다양한 형태의 검색어를 설정하는 데 도움이 된다.
4차산업혁명 지식서비스| OPIS란 무엇인가 https://4ir.kisti.re.kr/ick/cmmn/viewPost/20180214000055
IP제품 혁신 매뉴얼 - 특허청 https://www.kipo.go.kr/kpo/MainApp
무한 경쟁 시대 기업의 생존을 위한 혁신 방법론 CROSS IP INNOVATION
4차산업혁명 | http://wiki.hash.kr/index.php/4%EC%B0%A8_%EC%82%B0%EC%97%85%ED%98%81%EB%AA%85
대통령직속 4차산업혁명위원회 https://www.4th-ir.go.kr/4ir/list
|제2장| OPIS 프로세스 구성
삼성SDS| CVP 1등 상품을 만드는 것은 과연 넘사벽일까 https://www.samsungsds.com/global/ko/support/insights/IR_CX_CVP_1.html
OPIS는 프로세스는 문제분석, 원인분석, 쿼리 구성 및 문제 해결의 4단계로 구성된다.
OPIS는 프로세스를 구성하는 4단계를 순차적으로 필수 진행하되, 각 단계의 구성 유닛은 사례에 따라 선택적으로 진행할 수 있다. 기능 분석 없이 근본원인 분석을 바로 진행하는 경우도 있고, 검색식에 따른 검색 결과 건수가 많지 않은 경우에는 대안 시스템 발굴이 생략될 수도 있다. 그러나 문제 해결 과정에서 일부 모듈을 생략했을지라도, 문제 해결 수 검증과정에서는 생략된 모듈까지 빠짐없이 진행하는 것이 해결안을 더욱 풍부하게 하는 데 도움이 된다.
문제분석
문제 분석 단계에서는 문제 현상을 검토하고 문제의 배경을 기업의 내외부 측면에서 객관적으로 파악한다.
수혜 기업의 진술과 수행 기관의 조사를 통해 문제를 올바르게 정의하고 그 배경을 진단한다. 특허리스크를 진단하여 동종 기술 분야의 해결책을 발굴하거나. 해결되지 모한 원인을 분석한다.
문제 현상 분석
문제와 문제가 된 배경을 분석한다. 이는 문제가 발생하게 된 현상을 기술하고 그 배경을 진단하는 것이 목적이다. 이를 위해 기업의 내부 빛 외부 진단을 수행하고 기업의 니즈(Needs)와 디즈(Deeds)를 객관적인 시각에서 파악하도록 한다. 구체적으로 제품의 구조를 분석하도, 필요시 제품 사용자의 사용 패턴 및 환경을 관찰한다. 또한 기업 측의 진술을 통하여 문제 현상, 해결목적, 목표치, 제약 조건 및 한계 등을 정리한다.
특허 현황 분석
해결하고자 하는 문제와 관련하여 수혜 기업이 보유하고 있는 기술과 특허를 분석하고 동종 업계의 관련 특허를 분석하여 기술의 트렌드 및 특허 리스크를 진단한다. 이를 통해 해결 과제와 관련한 수혜 기업과 동종 업계의 해결 노력 및 접근 방향을 분석함으로써 동종 기술 분야의 해결책을 발굴하거나, 해결되지 못한 원인을 분석한다.
원인분석
원인 분석 단계에서는 문제의 원인을 분석하고, 핵샘 원인으로부터 모순을 분석한 후, 그 원인의 제거나 모순 극복을 위한 해결 방향을 도출한다.
시스템 도식화를 통해 문제의 핵심을 명확히 하고 시스템의 문제에 대한 분석을 기능의 관점에서 진행한다. 근본 원인 분석(RCA) 및 문제 흐름 분석 (PCA)을 활용하여 해당 문제에서 검토 가능한, 생각해 볼 수 있는 거의 모둔 해결책의 방향들을 도출한다.
시스템 도식화
문제 현상 기술을 바탕으로 시스템 도식화를 진행한다. 가장 간단한 직선, 원, 사각형 도형만을 이용하는 시스템 도식화 그림을 작성한다.
기능분석
문제와 관련된 기능을 중심으로 시스템을 분석한다.
근본 원인 분석
근본 원인 분석 (RCA, Root Cause Analysis)에서는 문제가 발생하는 매커니즘을 명확히 기술하며, 문제의 근본 원인을 제거할 수 있으면 여기에 집중하여 해결책을 곧바로 도출할 수도 있다. 만인 문제의 근본 원인을 제거하기 어렵다면 그 이유를 분석하여 이를 모순으로 설정하고, 이 모순을 해결하기 위해 트리즈 방법론을 적용하는 CECA(Cause Effect Chain Analysis) 기법을 활용할 수도 있다.
근본 원인 분석은 해결하고자 하는 문제에 대하여 왜라는 질문은 단계적으로 던지면서 근본 원인까지 찾아간다.
근본 원인 분석 기법과 비슷한 것으로 5-Why라는 방법론이 있다. 발생한 문제에 대하여 왜? 하는 질문을 5번 이상 던져 보라는 말이다. 5-Why에서는 2가지 관점으로 질문을 한다.
첫 번째는 다양한 관점으로 왜라는 질문을 5번 이상 하라는 것이다. 다시 말해 왜 문제가 되지, 왜 필요하지, 왜 발생하지 등의 질문을 하라는 것이다.
두 번째 관점은 깊이 있게 하나의 원인에 대하여 꼼꼼하게 물어가며 왜라는 질문을 하라는 것이다. 전통적인 근본 원인 분석 기법은 두 번째 관점에 해당한다.
제퍼슨 기념관 사례
근본 원인 분석 기법을 설명하는 데 가장 많이 사용되는 예제가 있다. 미국 워싱턴에 위치한 제퍼슨 기념관은 10년마다 거액의 공사비를 들여 벽면 보수 공사를 실시하고 있었다고 한다. 주위의 다른 기념관들은 괜찮은데 유독 제퍼슨 기념관만 보수 공사를 실시하고 있어 이에 대한 조사가 이루어졌다.
왜 벽면 보수 공사를 실시하는지에 대하여 왜 하는 질문을 지속적으로 던진 결과, 아래와 같은 원인을 도출하였다.
토마스 제퍼슨 기념관 | thomas jefferson memorial
Q. 왜 벽면 공사가 잦은가?
A. 벽면 세척이 잦아 대리석이 마모되기 때문에
Q. 왜 벽면 세척이 잦은가?
A. 건물 주변에 비둘기가 많아서 비둘기의 배설물로 벽면이 오염되었기 때문에
Q. 왜 비둘기가 많은가?
A. 비둘기의 먹이인 거미가 많기 때문에
Q. 왜 거미가 많은가?
A. 거미의 먹이인 나방이 많기 때문에
Q. 왜 나방이 많은가?
A. 가로등을 주변보다 한 시간 일찍 점등하기 때문에
근본 원인 분석을 통해 근본 원인을 찾았다면, 근본 원인을 제거하여 문제를 해결한다. 제퍼슨 기념관의 문제에서 잦은 벽면 보수 공사의 근본 원인은 제퍼슨 기념관 주변의 가로등을 한 시간 일찍 점등한다는 점이다. 그래서 당시 조사 위원회는 제퍼슨 기념과 주변의 가로등을 주변의 다른 기념관들과 같은 시간에 점등하게 하여 문제를 해결하였다고 한다.
문제 흐름 분석
문제 흐름 분석 (PCA, Problem Chain Analysis) 기법을 통해서 문제의 근본 원인에만 집중하지 않고 문제로부터 가능한 모든 해결책의 방향들을 도축한다. 이 기법은 드보노 박사가 강조하는 수평적 사고를 체계적으로 진행할 수 있는 방법론이다.
문제 흐름 분석(PCA) 전개를 할 때, 문제의 흐름을 끊는 규칙은 아래 것은 되고 위의 것은 안된다 이다. 제퍼슨 기념관의 사례에서 보다시피 수평으로 그어진 화살표의 동그라미 위에는 엑스 표시가 되어 있다.
모순 분석
문제 흐름 분석 (PCA, Problem Chain Analysis) 을 통해 도출된 해결 방향들 중 가장 현실적이고 효과적인 방향을 선정한다. 그리고 그 해결 방향과 관련된 모순을 파악하기 위해 모순 분석(PTC, Physical Technical Contradiction)을 수행한다. 모순 분석 방법을 통해 선정된 해결 방향의 심층 분석을 진행하면서 분제의 핵심을 재정의하며 해결뱡향을 구체화 한다.
검색식 구성
해결 방향의 구현에 필요한 아이디어를 특허 DB에서 발굴하기 위한 검색식을 구성한다.
OPIS 프로세스는 특정 기술 분야에 국한하지 않고 전 기술 분야를 대상으로 아이디어를 검색하므로, 그 특성상 검색 결과 건수가 많을 수밖에 없다. 따라서 검색 건수가 많을 경우에는 아이디어 발굴 가능성이 높은 기술 영역을 대안 시스템으로 선정한다. 그리고 이렇게 선정된 대안 시스템 내의 아이디어를 우선적으로 발굴함으로써 OPIS 프로세스의 효율을 높인다.
특허 검색식 작성
기능 분석에 기초하여 도출된 목적 기능을 수행할 수 있는 기술을 찾기 위한 검색식을 작성한다. 문제흐름 분석 및 모순 분석등에 기초하여 도출된 핵심 원인을 제거하는데 필요한 기술 구성을 찾기 위한 검색식을 작성한다(원인 분석 기반). 이와 동시에 전문가의 경험과 직관으로 도출된 해결 방향에 대하여 검색 쿼리를 작성할 수도있다(경험 지식 기반).
대안 시스템 발굴
검색 쿼리에 따른 검색 결과 건수가 많은 경우에는 검색 범위를 더욱 좁힐 필요가 있다. 이는 해당 목적 기능이나 핵심 원인 또는 해결 방향에 대한 검색을 특정 시스템에 한정하여 검색하기 위해서이다. 경험 지식 접근법, 과학 지식 접근법, 기술 지식 접근법등 그중 당해 문제를 해결하는 데 있어 아이디어 발견 가능성 및 제품 적용 가능성이 가장 높은 시스템을 선정한다.
문제 해결
특허 검색을 통해 아이디어를 발굴, 적용하고, 이를 특허 전략 및 로드맵으로 완성한다.
검색식을 이용하여 검색된 특허 데이터를 분석하여 문제 해결에 도움이 되는 아이디어를 발굴하고, 그중 적용 가능성이 높은 아이디어를 선정한다. 이렇게 선정된 아이디어는 당해 문제에 적용하고, 적용 과정에서의 부차적인 문제를 해결하여 구체화한다. 나아가 트리즈 및 특허 설계의 관점에서 다양한 방향으로 아이디어를 전개 확장한다. 그리고 아이디어간의 우선 순위를 평가하여 연구 개발 및 지식재산권 확보를 위한 단계적인 추진 로드맵을 수립한다.
아이디어 발굴
검색식을 이용하여 검색된 특허 데이터를 검토 분석하여 문제 해결에 이용된 수 있는 아이디어를 발굴한다. 발굴된 아이디어 중 적용가능성이 높고 적용 효과가 큰 아이디어를 선정한다. 적용 과정에서 또 다른 문제를 발생시키지 않는 아이디어를 선정하는 것이 바람직한다. 그러나 적용 효과가 큰 데 반해 적용상의 문제가 본질적인 것이 아니라면 후속 아이디어 적용 과정에서 이를 해결할 수 있다.
아이디어 적용
선정된 아이디어를 해결하고자 하는 문제에 적용하여 구체화 시킨다. 전술한 바와 같이 적용 과정에서 나타나는 적용 문제가 있다면 이를 해결하여 아이디어를 당해 시스템에 맞게 수정한다. 이 과정에서 OPIS 프로세스의 일부 단계나 모듈이 추가로 수행될 수도 있다.
아이디어 전개
선정된 아이디어의 해결 원리를 검토하여 또 다른 구체적인 아이디어를 도출하거나 트리즈 발명 원리 등을 적용하여 아이디어를 다양화 내지 구체화 한다.
특허 전략 수립
도출된 아이디어의 적용 가능성, 특허 등록 가능성, 기존 특허 침해 가능성, 도출된 아이디어의 적용에 필요한 추가 요소 및 수혜기업의 사업 전략 등을 종합적으로 검토하여 특허 전략 내지 기술 개발 로드맵을 수립한다.
|제3장| 문제분석
문제 현상 분석
문제 현상 분석은 기업의 진술을 중심으로 문제(해결과제)를 이해하고 그 배경을 진단하는 과정이다.
기업의 진술을 기초로 하되 이에 매몰되지 않아야 한다. 기업의 진술은 문제 자체가 아니라 문제의 현상으로서 받아들여야 한다. 기업의 진술을 중심으로 해결 과제를 이해하고, 필요한 정보를 요청, 조사함과 동시에 기업 또는 소비자의 디즈(Deeds)를 분석하여 문제의 본질에 접근한다.
먼저 기술 기술 기스템, 문제 현상, 기존 해결책 등을 중심으로 수혜 기업의 니즈(Needs)를 파악한다.
해결 과제를 중심으로 수혜 기업의 제품에 관한 이해의 폭을 넓힌다. 해결 과제의 본질에 접근하기 위한 과정으로 다음의 정보가 필수적으로 포함되어야 한다.
또한 기타 해결 과제를 명확히 하는 데 필요한 정보와 기술 및 시장정보를 요청하고, 수집한다.
기술 시스템 | 기술 시스템은 해결하고자 하는 문제를 포함하고 있는 제품, 설비 부품등을 의미한다.
기술 시스템의 주 기능 | 기술 시스템의 주 기능은 해당 시스템의 설계 목적으로 해당 제품 또는 설비가 수행하는 가장 중요한 기능을 의미한다.
기술 시스템의 구조 및 작동원리 | 기술 시스템을 구성하는 주요 요소와 주 기능을 수행하는 원리를 이해하기 쉬운 도식과 용어를 이용하여 기술한다.
문제현상
문제 현상은 기술 시스템이 기능을 수행하는 과정에서 발생하는 바람직하지 않은 작용(역기능)이나 그로 인한 결과(현상)를 구체적으로 기술한다. 문제 현상을 기술할 때는 가능한 문제가 발생하는 시간과 공간, 또는 특정하게 주어지는 조건에 대하여 구체적으로 기술한다.
문제 해결 목적 및 목표
문제 해결을 통하여 억도자 하는 바(목적)와 달성하고자 하는 수준(목표)을 명확하고 구체적으로 기술한다. 목표 수립은 달성 여부 및 그 수준을 측정할 수 있도록 가능한 정량적인 지표를 사용한다.
기존 해결책
현존하는 문제 해결 방안들에 대하여 가능한 구체적으로 기술한다. 문제 해결을 위하여 지금까지 시도해온 방안들을 기술하고, 필요한 경우 특허, 논문과 같은 구체적인 기술 정보나 경쟁사 제품 등 실물은 준비한다.
제약조건
가능한 설계 변경 범위, 원가 증가율, 공간 한계 등 현실적으로 반드시 고려해야 할 제약 조건들을 구체적으로 기술한다.
제품 사용 현장을 방문하여 실제 제품 및 문제 현상을 관찰하고 담당자 인터뷰 등을 통하여 수혜 기업의 디즈(Deeds)를 파악한다.
기본적으로 기업이 서술한 문제 현상 기술의 각 내용이 적절한지 확인하고 누락된 부부들을 보완한다. 예를 들어 시스템의 주 기능이 올바른지 문제 현상이 구체적으로 기술되었는지 검토해야 하며, 제약조건과 과제 목표 등이 모순되지는 않은지 면밀히 겸토해야 한다.
기업의 보유 자원을 파악하고 필요한 전략, R&D, 경영 및 시장현황을 파악한다.
과제를 성공적으로 수행하기 위해서는 기술적인 부분에 대한 검토만큼 기업의 전반적인 지원을 세밀히 파악하는 것도 중요한다. 기업의 자원이란 해당 과제에 대하여 전문 지식을 제공하고 기술적 검토를 할 수 있는 전문 인력과 도면, 특허 등 기술 문서 관리 수준, 해결안에 대한 검증 능력 등 과제 수행을 위해 파악해야 할 전반적인 것들이다. 필요한 경우 기업의 전략 부문부터 R&D, 생산, SCM 등 폭넓은 진단을 실시할 수도 있다. 그러나 본 과업의 성격상 제품이나 공정의 기술적 문제를 해결하는 경우가 대부분이므로 R&D 부문에 국한하여 필요한 진단을 하는 것이 적절하다.
특허 현황 분석
특허 현황 분석은 해결 과제와 관현한 기업과 동종 업계의 특허 및 기술 현황을 조사하여 동종 기술 분야 내에서의 해결 가능성을 검토함으로써 미해결 원인을 분석하며, 문제 해결 과정에서 우혀되는 특허 리스크를 진단하는 과정이다.
동종 분야의 기술 현황 분석은 동종 기술 분야에서 해결 방안을 발굴하고자 하는 것이 1차 목적이다. 나아가 과제 해결에 활용될 수 있는 보유 자원을 파악하고, 과제 해결 과정에서 우려되는 특허 리스크를 진단한다.
[보유 특허 분석] 우선 해결 가제와 관련하여 수혜 기업이 보유한 특허 및 기술을 분석한다. 이를 통해 해결 과제가 고질적인 문제가 된 원인을 진단하고, 과제 해결을 위한 보유 자원을 파악한다.
OPIS프로세스는 R&D 방법론이 아니다. OPIS 전문가는 기업보다 우수한 R&D 능력을 활용하여 문제를 해결하는 것이 아니라, 기업의 전문가들이 해당 문제를 해결하지 못한 원인을 진다하여 모순을 도출하고, 이를 해결하기 위한 새로운 시각을 제시하는 데 집중해야 한다. 이를 위해 특허 업계에서 널리 활용되는 다양한 분석 방법을 이용 할 수 있다. 특히 문제 배경 원인과 보유 자원을 한눈에 파악하기 위해서는 주요 기술 구성을 요약한 기술 흐름도가 유용한다.
[특허 트렌드 분석] 이어서 해결 과제와 관련한 동종 업계의 특허 및 기술을 분석한다. 이를 통해 동종 기술 분야에서 해결 방안을 발굴하거나, 해당 과제가 해결되지 못하고 있는 원인을 진단하고 과제 해결에 활용 간으한 자원을 파악한다.
과제의 해결에 이용될 수 있는 자유 기술이 존재한다면 이의 적용 가능성 및 활용 방안을 검토한다. 자유 기술은 문제 해결에 직접적으로 이용되지 않더라도 유용한 자워으로서 활용될 수 있다. 과제의 해결에 이용될 수 있는 기술이 장벽 특허로서 존재한다면 이를 회피하는 방향으로 문제 해결 전략을 수립한다. 장벽특허의 해결원리를 분석하고, 동일한 해결 원리를 이용한 새로운 구체적 해결책이 제시될 수도 있고, 다른 방향의 해결 원리를 제시할 수도 있다.
[특허 리스크 진단] 최종적으로, 해결 방안이 적용될 제품에 관한 특허 리스크를 진단한다. 이를 통해 현존하는 특허 리스크의 대응 전략을 수립하고, 프로세스 진행 과정에서 문제가 될 수 있는 특허 리스크를 사전에 차단한다.
해결 방안이 적용될 제품의 현재 상태를 기초로 특허 리스크를 진단한다. 해결 과제와 관련하여 현재 적용 중인 기술에 관한 특허 리스크는 물론이고, 해결 과제가 적용될 제품 자체에 관한 특허 리스크 판단도 필요한다. 앞서 기술 트렌드 분석 과정 중 장벽 특허를 파악하는 과정이 향후 도출될 해결 방안에 대한 리스크 제거에 의의가 있다면, 본 서브모듈은 향후 도출될 해결 방안이 적용될 제품 자체에 관한 리스크 제거에 더 큰 의의가 있다.
ⓒ DESIGN UNO. all rights reserved.
4th Industrial Revolution, 디자인방법론 | Jun, 2020
|제1장| OPIS의 개요
[출처| 대통령직속 4차산업혁명위원회]
혁신의 자양분, 특허정보
기술 혁신의 결과물인 특허 정보는 새로운 기술 혁신의 자양분이다.
특허 제도는 발명을 공개하는 대가로 20년간의 독점권을 부여하는 제도이다. 공정 경쟁에 장애가 될 수 있는 독점권을 부여 하면서까지 발명의 공개를 유도하는 것은 공개된 발명을 이용하여 새로운 기술 혁신이 이루어지기를 기대하기 때문이다.
창의적인 아이디어를 도출하기위한 체계적 방법론_FOS
Function Oriented Search, 기능 중심으로 이종 기술을 탐색하는 TRIZ 방법론 중 하나
OPIS (Open Patent Intelligence Search), 이종 분야 특허 검색 방법론 이미 다른 영역의 기술 분야에 존재하는 문제 해결 원리를 벤치마킹함으로써 빠른 속도, 적은 비용으로 제품 혁신을 추구하는 신개념 특허 검색 방법론이다.
혁신의 딜레마
최근 글로벌 경쟁이 격화되는 가운데, 기업의 경쟁력을 강화시킬 핵심요인으로 기술 혁신, 제품 혁신이 부각되고 있다. 글로벌 경제 시대가 활짝 열리고 정보통신기술(ICT)의 발전 속도가 한층 가속화되면서 기업들은 무한 경쟁에 내몰리고 있다. 이에 따라 이러한 무한 경쟁에서 살아남기 위하여 경쟁사와 차별화되는 혁신적인 제품, 서비스의 개발이 모든 기업들의 생존 목표가 되고 있다. 따라서 혁신에 따른 리스크는 가능한 줄이되 성공 가능성은 높여주는 효율적인 혁신 방법론에 대한 요구가 날로 높아지고 있다
따라서 새로운 혁신을 위한 자양분으로서 특허 정보를 체계적으로 활용하고, 이를 통해 혁신의 리스크를 줄이기 위한 방법론의 개발이 절실했다
4차산업혁명이란?
인공지능, 빅데이터 등 디지털 기술로 촉발되는 초연결 기반의 지능화 혁명 역사적으로 돌이켜 보면, 우리는 범용기술에 의해 3차례의 산업혁명을 경험하였습니다. 그리고 우리는 AI, BIG DATA 등 지능정보 기술로 촉발된 새로운 세상, 4차 산업혁명 시대를 만들어가고 있습니다
TRIZ와 OPIS
트리즈는 겐리히 알츠슐러(1924-1988)가 1948년부터 개발한 창의적 문제 해결이론(Theory of Inventive Problem Solving)이다.
창의적인 아이디어들을 모두 모아서 그 동통점을 찾는다면, 창의성에 대한 객관적이고 구체적인분석이 가능할 것이다. 겐리히 알츠슐러는 수백만 건의 전 세계 특허들을 오랜 기간 분석한 후 도출된 공통점들을 이론으로 체계화하여 이를 트리즈라고 명명하였다.
OPIS눈 문제를 새로운 시각으로 분석하기 위해 트리즈의 기능 분석 기법을 활용한다.
어떤 주제를 어떤 검색어와 형식으로 검색할 것인가란 중요한 질문에 풍부하게 답을 하려면 새로운 시각에서 문제를 분석하는 것이 필요하다. 이를 위하여 트리즈에서 사용하는 기능분석(Function Analysis) 기법을 사용한다. FOS (Function Oriented Search)에서 사용하는 일반적인 기능 분석도 있지만 OPIS에서는 핵심 요소만을 포함하는 기능 분석이 중심적으로 사용된다.
OPIS는 문제에서 가능한 모든 해결책 방향을 도출하고, 문제 해결에 필요한 수평적 사고를 체계적으로 도출하기 위하여 트리즈의 문제 흐름 분석 기법을 활용한다.
어떤 주제를 어떤 검색어와 형식으로 검색할 것인지를 결정하기 위하여 문제의 발생 원인을 파헤치고, 문제에서 가능한 모든 해결책 방향을 도출하는 것이 필요하다. 이를 위해서 트리즈 방법론의 문제 흐름 분석 기법을 사용한다. 근본 원인 분석 (RCA, Root Cause Analysis)은 문제의 원인들을 인과관계에 따라 발생 순서로 나열하여 문제의 근본 원인을 파악하는 문석 방법이다. 이러한 근분 원인 분석 기법을 더욱 발전시킨 것이 문제흐름 분석 (PCA, Problem Chain Analysis)이다.으로서 근본 원인 분석의 중간 단계를 끊어 내어 해결책을 제시한다.
OPIS는 미처 생각하지 못한 창의적인 해결책에 해당하는 다양한 형태의 검색어를 설정하기 위해 트리즈의 모순 분석 기법을 활용한다.
어떤 검색어를 어떤 형식으로 검색할 것인지에 대한 결정을 위하여 선정된 해결책 방향의 깊은 분석은 트리즈가 맡는다. 트리즈의 모순분석(PTC, Physical Technical Contradiction Modeling)기법을 활용하면 미처 생각하지 못한 창의적인 해결책에 해당하는 다양한 형태의 검색어를 설정하는 데 도움이 된다.
4차산업혁명 지식서비스| OPIS란 무엇인가 https://4ir.kisti.re.kr/ick/cmmn/viewPost/20180214000055
IP제품 혁신 매뉴얼 - 특허청 https://www.kipo.go.kr/kpo/MainApp
무한 경쟁 시대 기업의 생존을 위한 혁신 방법론 CROSS IP INNOVATION
4차산업혁명 | http://wiki.hash.kr/index.php/4%EC%B0%A8_%EC%82%B0%EC%97%85%ED%98%81%EB%AA%85
대통령직속 4차산업혁명위원회 https://www.4th-ir.go.kr/4ir/list
|제2장| OPIS 프로세스 구성
삼성SDS| CVP 1등 상품을 만드는 것은 과연 넘사벽일까 https://www.samsungsds.com/global/ko/support/insights/IR_CX_CVP_1.html
OPIS는 프로세스는 문제분석, 원인분석, 쿼리 구성 및 문제 해결의 4단계로 구성된다.
OPIS는 프로세스를 구성하는 4단계를 순차적으로 필수 진행하되, 각 단계의 구성 유닛은 사례에 따라 선택적으로 진행할 수 있다. 기능 분석 없이 근본원인 분석을 바로 진행하는 경우도 있고, 검색식에 따른 검색 결과 건수가 많지 않은 경우에는 대안 시스템 발굴이 생략될 수도 있다. 그러나 문제 해결 과정에서 일부 모듈을 생략했을지라도, 문제 해결 수 검증과정에서는 생략된 모듈까지 빠짐없이 진행하는 것이 해결안을 더욱 풍부하게 하는 데 도움이 된다.
문제분석
문제 분석 단계에서는 문제 현상을 검토하고 문제의 배경을 기업의 내외부 측면에서 객관적으로 파악한다.
수혜 기업의 진술과 수행 기관의 조사를 통해 문제를 올바르게 정의하고 그 배경을 진단한다. 특허리스크를 진단하여 동종 기술 분야의 해결책을 발굴하거나. 해결되지 모한 원인을 분석한다.
문제 현상 분석
문제와 문제가 된 배경을 분석한다. 이는 문제가 발생하게 된 현상을 기술하고 그 배경을 진단하는 것이 목적이다. 이를 위해 기업의 내부 빛 외부 진단을 수행하고 기업의 니즈(Needs)와 디즈(Deeds)를 객관적인 시각에서 파악하도록 한다. 구체적으로 제품의 구조를 분석하도, 필요시 제품 사용자의 사용 패턴 및 환경을 관찰한다. 또한 기업 측의 진술을 통하여 문제 현상, 해결목적, 목표치, 제약 조건 및 한계 등을 정리한다.
특허 현황 분석
해결하고자 하는 문제와 관련하여 수혜 기업이 보유하고 있는 기술과 특허를 분석하고 동종 업계의 관련 특허를 분석하여 기술의 트렌드 및 특허 리스크를 진단한다. 이를 통해 해결 과제와 관련한 수혜 기업과 동종 업계의 해결 노력 및 접근 방향을 분석함으로써 동종 기술 분야의 해결책을 발굴하거나, 해결되지 못한 원인을 분석한다.
원인분석
원인 분석 단계에서는 문제의 원인을 분석하고, 핵샘 원인으로부터 모순을 분석한 후, 그 원인의 제거나 모순 극복을 위한 해결 방향을 도출한다.
시스템 도식화를 통해 문제의 핵심을 명확히 하고 시스템의 문제에 대한 분석을 기능의 관점에서 진행한다. 근본 원인 분석(RCA) 및 문제 흐름 분석 (PCA)을 활용하여 해당 문제에서 검토 가능한, 생각해 볼 수 있는 거의 모둔 해결책의 방향들을 도출한다.
시스템 도식화
문제 현상 기술을 바탕으로 시스템 도식화를 진행한다. 가장 간단한 직선, 원, 사각형 도형만을 이용하는 시스템 도식화 그림을 작성한다.
기능분석
문제와 관련된 기능을 중심으로 시스템을 분석한다.
근본 원인 분석
근본 원인 분석 (RCA, Root Cause Analysis)에서는 문제가 발생하는 매커니즘을 명확히 기술하며, 문제의 근본 원인을 제거할 수 있으면 여기에 집중하여 해결책을 곧바로 도출할 수도 있다. 만인 문제의 근본 원인을 제거하기 어렵다면 그 이유를 분석하여 이를 모순으로 설정하고, 이 모순을 해결하기 위해 트리즈 방법론을 적용하는 CECA(Cause Effect Chain Analysis) 기법을 활용할 수도 있다.
근본 원인 분석은 해결하고자 하는 문제에 대하여 왜라는 질문은 단계적으로 던지면서 근본 원인까지 찾아간다.
근본 원인 분석 기법과 비슷한 것으로 5-Why라는 방법론이 있다. 발생한 문제에 대하여 왜? 하는 질문을 5번 이상 던져 보라는 말이다. 5-Why에서는 2가지 관점으로 질문을 한다.
첫 번째는 다양한 관점으로 왜라는 질문을 5번 이상 하라는 것이다. 다시 말해 왜 문제가 되지, 왜 필요하지, 왜 발생하지 등의 질문을 하라는 것이다.
두 번째 관점은 깊이 있게 하나의 원인에 대하여 꼼꼼하게 물어가며 왜라는 질문을 하라는 것이다. 전통적인 근본 원인 분석 기법은 두 번째 관점에 해당한다.
제퍼슨 기념관 사례
근본 원인 분석 기법을 설명하는 데 가장 많이 사용되는 예제가 있다. 미국 워싱턴에 위치한 제퍼슨 기념관은 10년마다 거액의 공사비를 들여 벽면 보수 공사를 실시하고 있었다고 한다. 주위의 다른 기념관들은 괜찮은데 유독 제퍼슨 기념관만 보수 공사를 실시하고 있어 이에 대한 조사가 이루어졌다.
왜 벽면 보수 공사를 실시하는지에 대하여 왜 하는 질문을 지속적으로 던진 결과, 아래와 같은 원인을 도출하였다.
토마스 제퍼슨 기념관 | thomas jefferson memorial
Q. 왜 벽면 공사가 잦은가?
A. 벽면 세척이 잦아 대리석이 마모되기 때문에
Q. 왜 벽면 세척이 잦은가?
A. 건물 주변에 비둘기가 많아서 비둘기의 배설물로 벽면이 오염되었기 때문에
Q. 왜 비둘기가 많은가?
A. 비둘기의 먹이인 거미가 많기 때문에
Q. 왜 거미가 많은가?
A. 거미의 먹이인 나방이 많기 때문에
Q. 왜 나방이 많은가?
A. 가로등을 주변보다 한 시간 일찍 점등하기 때문에
근본 원인 분석을 통해 근본 원인을 찾았다면, 근본 원인을 제거하여 문제를 해결한다. 제퍼슨 기념관의 문제에서 잦은 벽면 보수 공사의 근본 원인은 제퍼슨 기념관 주변의 가로등을 한 시간 일찍 점등한다는 점이다. 그래서 당시 조사 위원회는 제퍼슨 기념과 주변의 가로등을 주변의 다른 기념관들과 같은 시간에 점등하게 하여 문제를 해결하였다고 한다.
문제 흐름 분석
문제 흐름 분석 (PCA, Problem Chain Analysis) 기법을 통해서 문제의 근본 원인에만 집중하지 않고 문제로부터 가능한 모든 해결책의 방향들을 도축한다. 이 기법은 드보노 박사가 강조하는 수평적 사고를 체계적으로 진행할 수 있는 방법론이다.
문제 흐름 분석(PCA) 전개를 할 때, 문제의 흐름을 끊는 규칙은 아래 것은 되고 위의 것은 안된다 이다. 제퍼슨 기념관의 사례에서 보다시피 수평으로 그어진 화살표의 동그라미 위에는 엑스 표시가 되어 있다.
모순 분석
문제 흐름 분석 (PCA, Problem Chain Analysis) 을 통해 도출된 해결 방향들 중 가장 현실적이고 효과적인 방향을 선정한다. 그리고 그 해결 방향과 관련된 모순을 파악하기 위해 모순 분석(PTC, Physical Technical Contradiction)을 수행한다. 모순 분석 방법을 통해 선정된 해결 방향의 심층 분석을 진행하면서 분제의 핵심을 재정의하며 해결뱡향을 구체화 한다.
검색식 구성
해결 방향의 구현에 필요한 아이디어를 특허 DB에서 발굴하기 위한 검색식을 구성한다.
OPIS 프로세스는 특정 기술 분야에 국한하지 않고 전 기술 분야를 대상으로 아이디어를 검색하므로, 그 특성상 검색 결과 건수가 많을 수밖에 없다. 따라서 검색 건수가 많을 경우에는 아이디어 발굴 가능성이 높은 기술 영역을 대안 시스템으로 선정한다. 그리고 이렇게 선정된 대안 시스템 내의 아이디어를 우선적으로 발굴함으로써 OPIS 프로세스의 효율을 높인다.
특허 검색식 작성
기능 분석에 기초하여 도출된 목적 기능을 수행할 수 있는 기술을 찾기 위한 검색식을 작성한다. 문제흐름 분석 및 모순 분석등에 기초하여 도출된 핵심 원인을 제거하는데 필요한 기술 구성을 찾기 위한 검색식을 작성한다(원인 분석 기반). 이와 동시에 전문가의 경험과 직관으로 도출된 해결 방향에 대하여 검색 쿼리를 작성할 수도있다(경험 지식 기반).
대안 시스템 발굴
검색 쿼리에 따른 검색 결과 건수가 많은 경우에는 검색 범위를 더욱 좁힐 필요가 있다. 이는 해당 목적 기능이나 핵심 원인 또는 해결 방향에 대한 검색을 특정 시스템에 한정하여 검색하기 위해서이다. 경험 지식 접근법, 과학 지식 접근법, 기술 지식 접근법등 그중 당해 문제를 해결하는 데 있어 아이디어 발견 가능성 및 제품 적용 가능성이 가장 높은 시스템을 선정한다.
문제 해결
특허 검색을 통해 아이디어를 발굴, 적용하고, 이를 특허 전략 및 로드맵으로 완성한다.
검색식을 이용하여 검색된 특허 데이터를 분석하여 문제 해결에 도움이 되는 아이디어를 발굴하고, 그중 적용 가능성이 높은 아이디어를 선정한다. 이렇게 선정된 아이디어는 당해 문제에 적용하고, 적용 과정에서의 부차적인 문제를 해결하여 구체화한다. 나아가 트리즈 및 특허 설계의 관점에서 다양한 방향으로 아이디어를 전개 확장한다. 그리고 아이디어간의 우선 순위를 평가하여 연구 개발 및 지식재산권 확보를 위한 단계적인 추진 로드맵을 수립한다.
아이디어 발굴
검색식을 이용하여 검색된 특허 데이터를 검토 분석하여 문제 해결에 이용된 수 있는 아이디어를 발굴한다. 발굴된 아이디어 중 적용가능성이 높고 적용 효과가 큰 아이디어를 선정한다. 적용 과정에서 또 다른 문제를 발생시키지 않는 아이디어를 선정하는 것이 바람직한다. 그러나 적용 효과가 큰 데 반해 적용상의 문제가 본질적인 것이 아니라면 후속 아이디어 적용 과정에서 이를 해결할 수 있다.
아이디어 적용
선정된 아이디어를 해결하고자 하는 문제에 적용하여 구체화 시킨다. 전술한 바와 같이 적용 과정에서 나타나는 적용 문제가 있다면 이를 해결하여 아이디어를 당해 시스템에 맞게 수정한다. 이 과정에서 OPIS 프로세스의 일부 단계나 모듈이 추가로 수행될 수도 있다.
아이디어 전개
선정된 아이디어의 해결 원리를 검토하여 또 다른 구체적인 아이디어를 도출하거나 트리즈 발명 원리 등을 적용하여 아이디어를 다양화 내지 구체화 한다.
특허 전략 수립
도출된 아이디어의 적용 가능성, 특허 등록 가능성, 기존 특허 침해 가능성, 도출된 아이디어의 적용에 필요한 추가 요소 및 수혜기업의 사업 전략 등을 종합적으로 검토하여 특허 전략 내지 기술 개발 로드맵을 수립한다.
|제3장| 문제분석
문제 현상 분석
문제 현상 분석은 기업의 진술을 중심으로 문제(해결과제)를 이해하고 그 배경을 진단하는 과정이다.
기업의 진술을 기초로 하되 이에 매몰되지 않아야 한다. 기업의 진술은 문제 자체가 아니라 문제의 현상으로서 받아들여야 한다. 기업의 진술을 중심으로 해결 과제를 이해하고, 필요한 정보를 요청, 조사함과 동시에 기업 또는 소비자의 디즈(Deeds)를 분석하여 문제의 본질에 접근한다.
먼저 기술 기술 기스템, 문제 현상, 기존 해결책 등을 중심으로 수혜 기업의 니즈(Needs)를 파악한다.
해결 과제를 중심으로 수혜 기업의 제품에 관한 이해의 폭을 넓힌다. 해결 과제의 본질에 접근하기 위한 과정으로 다음의 정보가 필수적으로 포함되어야 한다.
또한 기타 해결 과제를 명확히 하는 데 필요한 정보와 기술 및 시장정보를 요청하고, 수집한다.
기술 시스템 | 기술 시스템은 해결하고자 하는 문제를 포함하고 있는 제품, 설비 부품등을 의미한다.
기술 시스템의 주 기능 | 기술 시스템의 주 기능은 해당 시스템의 설계 목적으로 해당 제품 또는 설비가 수행하는 가장 중요한 기능을 의미한다.
기술 시스템의 구조 및 작동원리 | 기술 시스템을 구성하는 주요 요소와 주 기능을 수행하는 원리를 이해하기 쉬운 도식과 용어를 이용하여 기술한다.
문제현상
문제 현상은 기술 시스템이 기능을 수행하는 과정에서 발생하는 바람직하지 않은 작용(역기능)이나 그로 인한 결과(현상)를 구체적으로 기술한다. 문제 현상을 기술할 때는 가능한 문제가 발생하는 시간과 공간, 또는 특정하게 주어지는 조건에 대하여 구체적으로 기술한다.
문제 해결 목적 및 목표
문제 해결을 통하여 억도자 하는 바(목적)와 달성하고자 하는 수준(목표)을 명확하고 구체적으로 기술한다. 목표 수립은 달성 여부 및 그 수준을 측정할 수 있도록 가능한 정량적인 지표를 사용한다.
기존 해결책
현존하는 문제 해결 방안들에 대하여 가능한 구체적으로 기술한다. 문제 해결을 위하여 지금까지 시도해온 방안들을 기술하고, 필요한 경우 특허, 논문과 같은 구체적인 기술 정보나 경쟁사 제품 등 실물은 준비한다.
제약조건
가능한 설계 변경 범위, 원가 증가율, 공간 한계 등 현실적으로 반드시 고려해야 할 제약 조건들을 구체적으로 기술한다.
제품 사용 현장을 방문하여 실제 제품 및 문제 현상을 관찰하고 담당자 인터뷰 등을 통하여 수혜 기업의 디즈(Deeds)를 파악한다.
기본적으로 기업이 서술한 문제 현상 기술의 각 내용이 적절한지 확인하고 누락된 부부들을 보완한다. 예를 들어 시스템의 주 기능이 올바른지 문제 현상이 구체적으로 기술되었는지 검토해야 하며, 제약조건과 과제 목표 등이 모순되지는 않은지 면밀히 겸토해야 한다.
기업의 보유 자원을 파악하고 필요한 전략, R&D, 경영 및 시장현황을 파악한다.
과제를 성공적으로 수행하기 위해서는 기술적인 부분에 대한 검토만큼 기업의 전반적인 지원을 세밀히 파악하는 것도 중요한다. 기업의 자원이란 해당 과제에 대하여 전문 지식을 제공하고 기술적 검토를 할 수 있는 전문 인력과 도면, 특허 등 기술 문서 관리 수준, 해결안에 대한 검증 능력 등 과제 수행을 위해 파악해야 할 전반적인 것들이다. 필요한 경우 기업의 전략 부문부터 R&D, 생산, SCM 등 폭넓은 진단을 실시할 수도 있다. 그러나 본 과업의 성격상 제품이나 공정의 기술적 문제를 해결하는 경우가 대부분이므로 R&D 부문에 국한하여 필요한 진단을 하는 것이 적절하다.
특허 현황 분석
특허 현황 분석은 해결 과제와 관현한 기업과 동종 업계의 특허 및 기술 현황을 조사하여 동종 기술 분야 내에서의 해결 가능성을 검토함으로써 미해결 원인을 분석하며, 문제 해결 과정에서 우혀되는 특허 리스크를 진단하는 과정이다.
동종 분야의 기술 현황 분석은 동종 기술 분야에서 해결 방안을 발굴하고자 하는 것이 1차 목적이다. 나아가 과제 해결에 활용될 수 있는 보유 자원을 파악하고, 과제 해결 과정에서 우려되는 특허 리스크를 진단한다.
[보유 특허 분석] 우선 해결 가제와 관련하여 수혜 기업이 보유한 특허 및 기술을 분석한다. 이를 통해 해결 과제가 고질적인 문제가 된 원인을 진단하고, 과제 해결을 위한 보유 자원을 파악한다.
OPIS프로세스는 R&D 방법론이 아니다. OPIS 전문가는 기업보다 우수한 R&D 능력을 활용하여 문제를 해결하는 것이 아니라, 기업의 전문가들이 해당 문제를 해결하지 못한 원인을 진다하여 모순을 도출하고, 이를 해결하기 위한 새로운 시각을 제시하는 데 집중해야 한다. 이를 위해 특허 업계에서 널리 활용되는 다양한 분석 방법을 이용 할 수 있다. 특히 문제 배경 원인과 보유 자원을 한눈에 파악하기 위해서는 주요 기술 구성을 요약한 기술 흐름도가 유용한다.
[특허 트렌드 분석] 이어서 해결 과제와 관련한 동종 업계의 특허 및 기술을 분석한다. 이를 통해 동종 기술 분야에서 해결 방안을 발굴하거나, 해당 과제가 해결되지 못하고 있는 원인을 진단하고 과제 해결에 활용 간으한 자원을 파악한다.
과제의 해결에 이용될 수 있는 자유 기술이 존재한다면 이의 적용 가능성 및 활용 방안을 검토한다. 자유 기술은 문제 해결에 직접적으로 이용되지 않더라도 유용한 자워으로서 활용될 수 있다. 과제의 해결에 이용될 수 있는 기술이 장벽 특허로서 존재한다면 이를 회피하는 방향으로 문제 해결 전략을 수립한다. 장벽특허의 해결원리를 분석하고, 동일한 해결 원리를 이용한 새로운 구체적 해결책이 제시될 수도 있고, 다른 방향의 해결 원리를 제시할 수도 있다.
[특허 리스크 진단] 최종적으로, 해결 방안이 적용될 제품에 관한 특허 리스크를 진단한다. 이를 통해 현존하는 특허 리스크의 대응 전략을 수립하고, 프로세스 진행 과정에서 문제가 될 수 있는 특허 리스크를 사전에 차단한다.
해결 방안이 적용될 제품의 현재 상태를 기초로 특허 리스크를 진단한다. 해결 과제와 관련하여 현재 적용 중인 기술에 관한 특허 리스크는 물론이고, 해결 과제가 적용될 제품 자체에 관한 특허 리스크 판단도 필요한다. 앞서 기술 트렌드 분석 과정 중 장벽 특허를 파악하는 과정이 향후 도출될 해결 방안에 대한 리스크 제거에 의의가 있다면, 본 서브모듈은 향후 도출될 해결 방안이 적용될 제품 자체에 관한 리스크 제거에 더 큰 의의가 있다.
ⓒ DESIGN UNO. all rights reserved.